首页 > 大学网课 题目内容 (请给出正确答案) [单选题] 为了避免()在经过氯化物等离子体刻蚀之后的残留物使其发生腐蚀,必须在刻蚀完毕之后再增加一道工序来除去这些表面残留物。 A.多晶硅B.单晶硅C.铝硅铜合金D.铜 查看答案 答案 收藏 如果结果不匹配,请 联系老师 获取答案 您可能会需要: 您的账号:,可能还需要: 您的账号: 发送账号密码至手机 发送 重置密码 查看订单 联系客服 安装优题宝APP,拍照搜题省时又省心! 重要提示:请勿将账号共享给其他人使用,违者账号将被封禁。