题目内容
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[单选题]
在制冷装置中，清除金属屑及氧化皮等机械杂质的基本方法是（)。
A.用过滤器
B.用清洁剂
C.用干燥剂
D.用截止阀
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B、钢管应平直，直线度允许偏差为管长的1/500，两端面应平整，不得有斜口、毛刺;
C、铸件表面应光整，不得有砂眼、缩孔、裂纹、浇冒口残余等缺陷，表面粘砂应清除干净;
D、冲压件不得有毛刺、裂纹、氧化皮等缺陷;
E、各焊缝有效焊缝高度应符合本规程第3.2.1条的规定，且焊缝应饱满，焊药清除干净，不得有未焊透、夹砂、咬肉、裂纹等缺陷;
F、可调底座和可调托座的表面应镀锌，镀锌表面应光滑，在连接处不得有毛刺、滴瘤和多余结块,架体杆件及构配件表面应镀锌或涂刷防锈漆，涂层应均匀、牢固。
G、主要构配件上的生产厂标识应清晰。
A.NAC可以通过直接清除活性氧及作为还原性谷胱甘肽前体发挥抗氧化作用
B.NAC是谷胱甘肽的前体物质
C.NAC可通过抑制氧化还原敏感细胞信号转导及促炎基因表达，恢复细胞氧化还原态，并调控COPD炎症通路
D.口服NAC可提高COPD患者的血浆及肺灌洗液谷胱甘肽水平，以此影响机体的氧化还原平衡
E.在小鼠模型中，NAC被证实可减少吸烟导致的肺部谷胱甘肽流失
使用整形工具前，要检查确认没有夹入金属屑、沙粒等，以免()。
A.影响整形工具的使用
B.损坏整形工具
C.整形时在镜架上留下疵病
D.整形时在镜架上留下疵病，对顾客造成伤害
图5.37示出氙的氟化物和氧化物的分子(或离子)结构。
(1)根据图形及VSEPR理论，指出分子的几何构型名称和所属点群;
(2)Xe原子所用的杂化轨道;
(3)Xe原子的表观氧化态;
(4)已知在XeF2，XeF4，加合物晶体中，两种分子的构型与单独存在时的几何构型相同，不会相互化合成XeF2，从中说明什么问题？
