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第1题
关于恒电位X射线机的叙述中，错误的是（)。
A.恒电位X射线机也简称为CP型X射线机
B.恒电位X射线机可产生一个恒定能量的X射线束
C.恒电位X射线机能提供更强的能量输出
D.恒电位X射线机能延长射线管寿命和缩短曝光时间
第5题
采用与被透照工件对射线吸收性质相同或相近的材料制成块状物、糊膏、粉剂或液体，用于填补工件不同厚度部分，使工件的透照厚度趋于一致，这种方法被称之为（)。
A.补偿
B.垫板
C.抗散射
D.以上都不是
第6题
光刻技术的原理和印刷的照相制版相似，即在硅基材料上涂覆光刻胶，接着利用分辨率极高的能量束来通过掩模，对光刻胶层进行选择性曝光。经显影后，在光刻胶层上获得和掩模图像相同的极微细的几何图形，再利用刻蚀等方法在工件材料上制造出微型结构。（)
