题目内容
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[主观题]
对于某种薄膜的CVD过程,淀积温度为900℃,质量传输系数hG=10cms-1,表面反应速率系数ks=1×107exp(-1.9eV/kT)cms-1.现有以下两种淀积系统可供选择(1)冷壁,石墨支座型;(2)热壁,堆放硅片型。应该选用哪种类型的淀积系统并简述理由。
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A.在沉积温度下,反应物具有足够高的蒸气压,并能以适当的速度被引入反应室
B.反应产物除了形成固态薄膜物质外,都必须是挥发性的
C.沉积薄膜和基体材料必须具有足够低的蒸气压,以保证在反应中能保持在受热的基体上,不会挥发
D.作为涂层的分解或还原产物在作业温度下必须是易挥发的固相物质
A.90℃~110℃
B.100℃~120℃
C.130℃~150℃
D.150℃~160℃
电致变色器件可智能调控太阳光透过率,从而实现节能。下图是某电致变色器件的示意图。当通电时,Ag+注入到无色WO3薄膜中,生成AgxWO3,器件呈现蓝色,对于该变化过程,下列叙述错误的是()。
A.Ag为阳极
B.Ag+由银电极向变色层迁移
C.W元素的化合价升高
D.总反应为:WO3+xAg=AgxWO3