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[多选题]
集成电路布图设计权赋予设计人对自己创作完成的半导体集成电路布图设计享有()权和()权。
A.制作
B.复制
C.商业利用
D.使用
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A.制作
B.复制
C.商业利用
D.使用
A.布图设计专有权经国家知识产权局登记产生
B.布图设计专有权自创作完成之日起自动产生
C.布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计登记申请之日起计算,
D.布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计创作完成之日起计算
A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性
B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感
C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念
D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作