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题目内容 (请给出正确答案)
[单选题]

异质结的超注入现象是指?()

A.在异质pn结中,由宽禁带半导体注入到窄禁带半导体中的少数载流子浓度可超过宽禁带半导体中多数载流子的浓度

B.在异质pn结中,由窄禁带半导体注入到宽禁带半导体中的少数载流子浓度可超过窄禁带半导体中多数载流子的浓度

C.在异质pn结中,宽禁带半导体的少数载流子注入到窄禁带半导体中,其浓度超过宽禁带半导体中多数载流子的浓度

D.在异质pn结中,由宽禁带半导体注入到窄禁带半导体中的多数载流子浓度可超过宽禁带半导体中多数载流子的浓度

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第1题
关于pn结的注入特性,以下说法正确的是?()

A.异质 pn 结的高注入特性是区别同质 pn 结的主要特点之一

B.决定同质pn结注入比的是掺杂浓度,要想获得大的注入比就要求

C.决定异质pn结注入比的是 ,通常可获得较大的注入比

D.同质pn结具有比异质pn结更大的注入比

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第2题
在异质结双极型晶体管中,通常将发射结作成异质结,即用宽禁带材料制作发射区,用窄禁带材料制作基区。()
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第3题
异质结能带结构的特点包括:()。

A.在两种材料的交界面处,能带弯曲不连续,形成“凹口”和“尖峰”

B.能带在交界面处,有一个突变(导带阶和价带阶)

C.能带的变化是连续的

D.能带的变化与两种材料的费米能级无关

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第4题
在同质结结构中,为了得到20%以上的高效率,必须让结合深度在()以下的浅层处,因此在异质表面结构中,通入插入宽禁带宽度的窗层,增加结合深度高定的自由度,就可以实现高效率。
在同质结结构中,为了得到20%以上的高效率,必须让结合深度在()以下的浅层处,因此在异质表面结构中,通入插入宽禁带宽度的窗层,增加结合深度高定的自由度,就可以实现高效率。

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第5题
竞争对手是指对本企业产品和业务能进行营销竞争、抢夺市场和消费者的其他企业,这里指的业务竞争不仅包括同质竞争,也包括异质竞争。()
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第6题
()是指选择一个常规、简洁的图形作为基本形,保持其骨骼不变,再根据创意,置换新的元素,组成新的形态。

A.同质同构原理

B.求同存异原理

C.同质异构原理

D.异质同构原理

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第7题
在进行分组教学时,为了形成既有合作又有竞争的良好学习氛围,我们应尽量做到()。

A.组间同质,组内异质

B.组间同质,组内同质

C.组间异质,组内异质

D.组间异质,组内同质

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第8题
关于群体结构中的同质和异质理解比较正确的是()。

A.在完成简单的任务时,同质结构的群体效率较高

B.在完成复杂的任务时,异质结构的群体有较高的效率

C.企业中的基层生产班组具有同质结构比较适当

D.领导班子中最好具有异质结构

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第9题
声波遇到异质界面时,在原介质中改变传播方向的现象叫做()现象。
声波遇到异质界面时,在原介质中改变传播方向的现象叫做()现象。

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第10题
在异质的环境下,组织环境相对简单,因为组织能够发展出一套标准化的应对方法()
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